半导体行业产生的特种气体有哪些（半导体特种气体种类）
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半导体属于高新技术产业，往往被误解为“清洁”产业，但事实上，在清洗、光刻、去胶、烘干等工艺中需使用大量的酸、碱及有机溶剂和多种特殊气体，整个生产过程三废产量大、种类多。半导体工业用气体具有品种多、质量要求高、用量少等特点，大部分是有毒或腐蚀性气体，品种高达百余种。本文将介绍半导体行业产生的特种气体有哪些？
半导体特种气体种类
半导体工业特种气体按照应用分类，主要包括：
1、硅族气体：含硅基的硅烷类，如硅烷（SiH4）、二氯二氢硅（SiH2Cl2）、乙硅烷（Si2H6）等。
2、掺杂气体：含硼、磷、砷等三族及五族原子之气体，如三氯化硼（BCl3）、三氟化硼（BF3）、磷烷（PH3）、砷烷（AsH3）等。
3、蚀刻清洗气体：以含卤素的卤化物及卤碳化合物为主，如氯气（Cl2）、三氟化氮（NF3）、溴化氢（HBr）、四氟化碳（CF4）、六氟乙烷（C2F6）等
4、反应气体：以碳系及氮系氧化物为主，如二氧化碳（CO2）、氨（NH3）、氧化亚氮（N2O）等。
5、金属气相沉积气体：含卤化金属及有机烷类金属，如六氟化钨（WF6）、三甲基镓（Ga（CH3）3）等。
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