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半导体一氧化二氮尾气如何处理?工业一氧化二氮尾气处理方法及用途

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随着信息技术行业的快速发展,一氧化二氮( N2O)作为现代半导体、微电子、光电子和大型集成电路以及光纤制造L域重要的基础原料,需求量随之增长,被称为IT产业的“粮食”,它属于氮氧化物之一。氮氧化物(NOX)种类很多,包括一氧化二氮(N2O)、一氧化氮(NO)、二氧化氮 (NO2)、三氧化二氮(N2O3)、四氧化二氮(N2O4)和五氧化二氮(N2O5)等多种化合物, 但主要是NO和NO2,它们是常见的大气污染物。那么半导体一氧化二氮尾气如何处理?下面让我们展开全文内容,去了解工业一氧化二氮尾气处理方法及用途。

一氧化二氮

一氧化二氮尾气处理

一氧化二氮尾气处理主要有以下几种方法:

高温分解法

高温分解法是把N2O和燃料气在高温(1200~1500℃) 下反应分解,这种技术工艺简单,不需要催化剂,但是操作费用较高,需要大量消耗燃料气,且高温反应设备的维护难度较大。因此利用高温分解法脱除化工尾气中N2O组分在实际应用中会受到一定的限制。

选择性催化还原法

选择性催化还原法通常选用氨或天然气为还原剂,加入负载型贵金属催化剂,根据还原剂和催化剂的不同调节适宜的反应温度( 通常在200~600℃ ) ,从而实现N2O的脱除。

催化分解消除法

催化分解消除法是指在催化剂的作用下使N2O直接分解为O2和N2。

 

怎么处理一氧化氮尾气?

一氧化氮为氮氧化合物,化学式NO,相对分子质量30.01,氮的化合价为+2。是一种无色无味气体难溶于水的有毒气体。由于一氧化氮带有自由基,这使它的化学性质非常活泼。当它与氧气反应后,可形成具有腐蚀性的气体——二氧化氮(NO2),二氧化氮可与水反应生成硝酸。处理一氧化氮尾气主要有以下几种方法:

活性炭吸附法

活性炭吸附法对一氧化氮的脱除效率很高,而且能回收。

液体吸收法

液体吸收系用酸、碱、盐的水溶液来吸收废气中的氮氧化物,以此达到废气净化的目的,从本质上来说是一种传质或扩散操作。

 

工业一氧化二氮

一氧化二氮是一种无毒、无色、不K燃的储存于钢瓶中的液化压缩气体。一氧化二氮对生态环境有一定的危害,特别是鱼类、水体、土壤、大气和饮用水的污染;对健康危害是一旦吸入对身体有害,能引起快速室息;吸入高浓度的一氧化二氮,影响中枢神经系统并发生中毒症状;过量反复接触使工人发生贫血,生殖功能紊乱;对人有胚胎毒性,引起自然流产。工业一氧化二氮是指用于现代工业半导体、微电子、光电子和大型集成电路以及光纤制造L域重要的基础原料。

 

工业一氧化二氮用途

工业一氧化二氮用途主要有以下几种:

  1. 用于管路泄露检测L域,可用作分析测定试剂;
  2. 可用作防腐剂,用于有机化学品防腐L域;
  3. 可用作助燃剂,加快燃料燃烧,提高车辆引擎速度;
  4. 可用作氧化剂,用于火箭燃料制造L域;
  5. 可用作悬浮剂、发泡剂、密封剂,用于食品、饮料、乳制品工业;
  6. 可用于制药、化妆品等行业。

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