有研半导体材料有限公司成立于2001年6月，高新技术企业，拥有整套具备自主知识产权的核心技术和符合国际标准的厂房设备。主要从事硅材料的研究、开发、生产与经营，提供相关技术开发、技术转让和技术咨询服务。主要产品硅单晶及硅片，应用于集成电路、功率器件、太阳能等多个L域，远销美国、日本、韩国、台湾等多个地区，在国内外市场具有较高的知名度和影响力。

氮氧化物（主要为二氧化氮）为半导体生产工艺中主要废气，其不同于其他的酸性废气，在碱性溶液中溶解度较弱，两相转化率较低。处理二氧化氮为主的废气主要通过氧化还原的方法进行吸收处理。相比于传统的酸碱吸收的方法，氧化还原的吸收方式反应速率低，但处理效率可以大大提升。

氮氧化物废气系统处理工艺路线：

气体收集➡氧化还原塔➡耐腐蚀风机➡烟囱（达标排放）