随着数字时代的飞速发展，半导体芯片现已广泛应用于各个l域，给人们的工作与生活带来了极大的便利。但同时随着半导体制造企业的快速发展，给环境带来了一定的空气污染，必须通过废气净化设备处理后高空排放。那么半导体废气净化设备是什么？半导体尾气处理的设备有哪些？如何识别半导体制造企业废气净化设备，这就需要我们先搞清楚废气的分类，因为不同的废气所使用的废气净化设备是不一样的。通常半导体废气分为酸性排气、碱性排气、VOCs排气、一般排气和有毒排气等。根据半导体排气种类，金沙威尼斯欢乐娱人城环保公司为您介绍简单半导体尾气废气净化设备如下：

等离子水洗Local Scrubber设备

该设备主要去除半导体Dry Etch、ThinFilm、Diffusion等晶圆工艺制程中使用或产生的PFC温室气体和有毒有害气体，如：CF4、NF3、SF6、C2F6、CHF3、CH2F2等。

本设备的直流电弧等离子体为非转移型，两电极区域不参与反应，只产生等离子体，产生的火焰温度可达3000度以上。 等离子反应器的MTBF大于1年，反应室内腔的材质耐热和耐腐，具有四个进气口，装置具备冷却区、喷淋区及两级填料除雾区，对PFC温室气体的去除效率>90%。本装置的直流电弧等离子体为非转移型，两电极区域不参与反应，只产生等离子体，产生的火焰温度可达3000度以上。 等离子反应器的MTBF大于1年，反应室内腔的材质耐热和耐腐，具有四个进气口，装置具备冷却区、喷淋区及两级填料除雾区，对PFC温室气体的去除效率>90%。

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喷淋洗涤塔

对于含有酸性/碱性物质的废气 ，半导体厂封闭车间大都采用大型卧式洗涤塔进行废气处理。废气喷淋塔是利用酸碱中和原理，酸性（碱性）废气与喷淋碱液（酸液）中和反应，将气态污染物转化为盐类，随污水排入到污水处理系统中处理。经喷淋处理后的废气排放达到大气中，一级喷淋塔处理效率可以达到90%以上。废气洗涤塔适用于电子工业、半导体制造业、PCB制造业、LCD制造业、钢铁金属工业、电镀及金属表面处理工业、酸洗制程、染料、制药、化学工业、除臭、仪表等行业废气的净化处理。

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沸石转轮吸附浓缩装置

沸石转轮吸附浓缩装置主要用于有机废气的治理， 特别适合于大风量，低浓度场合。该吸附装置以陶瓷纤维为基材，做成蜂窝状的大圆盘轮状系统，轮子表面涂覆疏水性沸石做吸附剂。沸石转轮吸附浓缩装置主要由废气预处理系统、分子筛转轮浓 缩吸附系统、脱附系统、冷却干燥系统和自动控制系统等组成。

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TO直燃炉

对大风量、低浓度的VOCs废气，TO直燃炉一般会搭配沸石转轮使用，废气先通过预处理工艺，去除其中的粉尘、颗粒物及杂质成分，保护沸石转轮，沸石转轮一般分三个区域，分别为吸附区、脱附区和冷却区，面积占比为10:1:1，含有VOC的废气经过收集管路进入到沸石转轮，通过转轮吸附区进行吸附，转轮的吸附效率一般设计要求＞95%，经过转轮吸附区吸附后的废气可以达标排放。转轮在吸附的同时也进行局部的高温脱附，一般脱附区进气的设定温度是200-220℃，对转轮中吸附的VOC进行脱附和浓缩，脱附后的转轮区域需要进行冷却降温后才能恢复正常的吸附状态，脱附区的高温废气是通过从转轮冷却区出来的废气，跟转轮热交换的温度正常在120-130℃左右，经过换热器换热到200-220℃，进入到脱附区进行脱附和浓缩，脱附出来的废气经过脱附风机送入到预热换热器，将废气换热到350-420℃后进入到燃烧炉里进行燃烧，从沸石转轮吸附区出口的废气和燃烧炉换热后的气体会排放到统一的烟囱进行排放。

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以上简单介绍了四种半导体废气净化设备，希望对您有所帮助。咨询或采购半导体废气处理设备请联系我们。

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